光刻工艺1，为什么整个光刻步骤要在黄光的暗室内...-问答

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光刻工艺1，为什么整个光刻步骤要在黄光的暗室内进行

樊晓明 2019-11-05 21:49:00

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1.wafer表面处理；2.旋涂光刻胶3.前烘；4.曝光；5.后烘；6.显影，有的需要在显影前进行坚膜；7.刻蚀。

龚峻梅2019-11-05 22:06:53

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其他回答

是光刻激光可刻蚀出来的图形最小距离.小于这个距离,就不能清晰的得到你想要的图像.其与光源波长及综合因子k1基本是常数正比,与镜头数值孔径的平方成反比。

米士刚2019-11-05 23:03:11
因为日光灯的波长中是含紫外的。而在实验室有些东西是不能接触紫外光的。所以选择用黄光。

龚常勇2019-11-05 22:20:44
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。硅片清洗烘干1、硅片清洗烘干工艺中减少因光刻胶高温流动而引起分辨率的降低。

龚巨发2019-11-05 22:03:43

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