磁控溅射中加热控温电源怎么用,是镀膜之前加热还是镀完膜之后加热的?
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一般来说,溅射更先进一些。至少溅射镀膜是在蒸发镀膜之后才发现的。蒸发没有过时,有许多材料用蒸发镀膜出来的结果比溅射的效果要好。所以看不同的材料而已,e型电子枪是目前比较先进的加热方式了。至于磁控溅射镀膜,不要用先进与否来判定一个镀膜方式,只有更加适合与否,考虑问题的时候,不仅仅从先进着手,还得看成本,原材料的耗费与浪费,对膜层的要求是否需要那么好的镀膜方式,还有很多需要考虑的东西。如果你是刚刚毕业的大学生,找工作方面,到了一个新的厂里之后,不要局限于公司里的设备与技术,从各个方面都去了解学习。不要对任何一个技术抱着先进与不先进的态度。一视同仁。多学点对你肯定有好处。
龙巧仙2019-12-21 23:21:27
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1.镀金属膜时,一般用氩气作为工作气体,它是惰性气体,在真空状态下加热基片时不会发生氧化作用。2.氧气一般用于镀非金属膜,如TiO2,不必担心镀好膜后发生膜氧化现象。3.氮气是在换靶镀膜时往真空室冲入的气体,让真空室内压强和大气压强保持相等,才能开盖换靶镀另一层膜。可能解释还不是很清楚,如有疑问,可以继续提问。
齐新英2019-12-22 00:20:18
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使用直流电源,电子方向始终统一,会导致单一种类电荷堆积过高与控制源中和。也就是说用来提供动力的正负极被中和了。然后磁控溅射将不再继续。所以采用脉冲电源。真空镀膜简介真空镀膜一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术最先用于生产光学镜片,如航海望远镜镜片等。后延伸到其他功能薄膜,唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。如手表外壳镀仿金色,机械刀具镀膜,改变加工红硬性。在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。真空镀膜技术初现于20世纪30年代,四五十年代开始出现工业应用,工业化大规模生产开始于20世纪80年代,在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜是指在真空环境下,将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面,属于物理气相沉积工艺。因为镀层常为金属薄膜,故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。在所有被镀材料中,以塑料最为常见,其次,为纸张镀膜。相对于金属、陶瓷、木材等材料,塑料具有来源充足、性能易于调控、加工方便等优势,因此种类繁多的塑料或其他高分子材料作为工程装饰性结构材料,大量应用于汽车、家电、日用包装、工艺装饰等工业领域。但塑料材料大多存在表面硬度不高、外观不够华丽、耐磨性低等缺陷,如在塑料表面蒸镀一层极薄的金属薄膜,即可赋予塑料程亮的金属外观,合适的金属源还可大大增加材料表面耐磨性能,大大拓宽了塑料的装饰性和应用范围。真空镀膜的功能是多方面的,这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说,真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果,在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能,提供优异的电磁屏蔽和导电效果。
齐晓宁2019-12-22 00:08:42
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不同的设备的加热电流相差很大,没有固定的指标。磁控溅射镀膜机的基片加热是在开始镀膜时给基片一定的温度,镀膜开始后,基片的温度会不断上升,需要降低加热的电流,最后可能不需要启动加热了。可以再基片附近安放一个热偶,标定一下,在不同的时间,基片的相对温度,同时调整加热的电流,使基片基本保持在一个温度范围内,并做好记录,这个记录就是镀膜的加热工艺。
黄益溢2019-12-21 23:58:53
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磁控溅射中的加热温控电源有两种用途:真空室内部除气烘烤首次使用或长时间未使用,以及真空室开门时间过长--比如几天。在进行镀膜前,为了有很好的本底真空,应该对真空室进行烘烤除气。让真空室内的真空达到较好水平经过长时间镀膜后,本底真空不能达到要求,可以对真空室进行烘烤,除气,提高本底真空。其他需要内部烘烤的情况在镀膜前对基片进行预热基片放气较大,为了保证镀膜质量,先对基片进行预热除气基片的镀膜需要一个较高的起始温度,可先对基片进行加热,达到温度后,开始镀膜。镀膜过程中,一般不需要加热。有的膜需要就地退火,在镀膜完成后。加热到需要的温度后按工艺保温和降温。
龙庆丰2019-12-21 23:39:34