有谁知道磁控溅射ITO薄膜的厚度范围到底是多少啊?急

龚国安 2019-12-21 23:18:00

推荐回答

首先你要考虑:你是想学镀膜的工艺还是镀膜设备方面的技术?装饰镀方面国内外差距不大了,国内的设备稍便宜,但是膜层质量已经能做到很好。工具镀方面国内外差距就很大了,国外的工具镀膜公司基本上都是卖设备,然后设备配有工艺,但是国内的厂家在这方面经验就很少。至于待遇问题,如果你能做到工艺大师傅的话,我想工资水平至少在5000以上,但是你做设备方面的工程师,工资水平不会太高,除非你有很强的技术水平。如果有机会的话,我建议你去外企,例如:瑞士Balzers巴尔查斯\瑞士Platit\德国CemeCon\德国PVT普威特\德国Metaplas=瑞士Sulzer\另:不管是磁控溅射还是多弧,就蒸发源本身来讲,已经做的很好了,但是对于工艺的开发,基础理论等要比国外的企业差很多。
龙宇锋2019-12-22 00:09:06

提示您:回答为网友贡献,仅供参考。

其他回答

  • ITO的靶基距在100-200mm之间最好,用中频时靶基距应该更小。靶基距和当时的真空度、靶的尺寸、靶电流和表面温度等有关,不可一概而论。
    齐明珠2019-12-21 23:59:20
  • 厚度的话要看你的工艺要求,你要求膜的导电性,不同波长光的穿透率都和膜厚有关系,我们以前能做到面电阻小于10欧姆四探针,穿透率大于90%。
    黄益琼2019-12-21 23:40:05

相关问答